让航母动起来，为整个航母提供能量。
整个航母的电力系统，都是李浩这边的电控系统来管理，研究项目相互之间是有交叉的地方。
当然知道李浩和他的团队很厉害。
李浩谦虚道：“哪里，都是大家的功劳。”
大家闲聊了一番，随后也正式进入主题。
王院士说道：“听马院士说，你接手了鸿芯？投入大笔资金研究光刻机？目前研究到哪里了？”
光刻机有多难？
王院士当初可是长光所所长、馆长，如今已经退休了。
像这样的国宝级人才，退休也是返聘。
老人家也不让自己停下来休息，选择继续在一线折腾。
当初长光所放弃光刻机的研究，就知道这方面的封锁有多难。
李浩也知道，这是王院士对他的考验。
或者说，想知道浩鼎实验室有多少技术？
光刻机方面的研究，不是靠投入资金就能解决的。
资金仅仅是最基本的东西！
最重要的核心技术、人才、时间……最后才是资金。
“液压技术方面，我们已经有了突破……我们在精密仪器、高精度加工设备上也有研究。”
“橡胶材料方面的技术也已经取得突破。”
“核心透镜我们已经解决了！”
“曝光技术、校准技术、掩膜等方面的技术都已经有实质性的突破。”
“下游的光刻胶、光刻机气体等技术和材料都有突破！”
“目前，我主要研究方向是光源……”
李浩使用「研发中心」研发出5nm光刻机，之前还研究过车载芯片。
关于光刻机和芯片方面的专业知识、技术难题等等。
他知道得一清二楚。
是不是有真本事？
是不是真的有技术突破？
他和王琪海院士聊一聊就知道。
王琪海院士不是专业研究光刻机的，但他对光学工程方面还是相当了解的。
像王琪海院士这一代的人，人家专注的研究领域可不是某一个领域，在多个领域都算得上大牛！
非常厉害！
像双工作台、多重曝光技术这些，国内就有研究和突破。
李浩这边就更加成熟。
其实，委托齐勇从欧洲买来的32nm光刻机，使用的是duv光源。
较比阿斯麦目前最新的euv光刻机，光源波长比较长。
euv光源可以做到1015nm，光刻机起步就能做到7nm制程工艺到微米级别。
duv最多就是28nm的制程工艺，通过多重曝光技术，也可以做到7nm工艺，这已经是极限了。
国内有研究团队说能做到7nm工艺，就是duv技术使用多重曝光技术。
只是相关技术……还是在实验室里。
理论上的！
量产光刻机……根本造不出来！
多重曝光技术也很好理解：原本光刻机将芯片的电路图纸直接光刻到芯片上，光源比较粗，制程工艺有限制。
多重曝光技术，将原本芯片上的图纸，拆分成多份，分别进行光刻，然后再组合起来，形成一个完整的电路图。
这样做，能让duv光刻机理论上也能加工7nm芯片，但这也是极限了。
5nm是不可能的。
即便使用多重曝光技术拆分电路图，光源还是太粗，组合成一张电路图的时候，还是会出错。
这就需要euv光源，它的波长更短，这个‘光是一把更精致的刻刀，能雕刻更细微的电路图。
第110章 冰城工业大学012号课题！[2/2页]